[电子书]模块四　硅片后清洗刻蚀生产

4.1　刻蚀生产工艺流程

4.1.1　硅片刻蚀生产的目的

4.1.2　湿法刻蚀生产和去除PSG的原理

4.1.3　刻蚀生产工艺技术

4.2　刻蚀生产作业规范

4.2.1　生产作业规范

4.2.2　生产作业常见问题

4.3　刻蚀生产质量监控

4.3.1　刻蚀工艺质量的检测

4.3.2　后清洗刻蚀生产常见异常情况处理

4.4　刻蚀生产返工作业

4.4.1　刻蚀生产返工作业操作流程

4.4.2　RENA刻蚀设备的基本维护